सुमितोमो हेवी इंडस्ट्रीज जापान में सिस आयन इम्प्लांटेशन मशीनें लॉन्च करेंगे

रिपोर्ट के अनुसार, आयन आरोपण उपकरण अशुद्धता आयनों जैसे कि फास्फोरस और बोरॉन को अपने विद्युत गुणों को बदलने के लिए वेफर में इंजेक्ट करता है।सिलिकॉन वेफर्स के लिए, क्रिस्टलीयता को बहाल करने के लिए आयन आरोपण के बाद गर्मी उपचार किया जाता है।हालांकि, SIC के लिए, आयन आरोपण के बाद गर्मी उपचार के माध्यम से पूरी तरह से क्रिस्टलीयता को बहाल करना मुश्किल है।सामान्य विधि एसआईसी चिप को लगभग 500 डिग्री सेल्सियस तक गर्म करना है, फिर आयन आरोपण और गर्मी उपचार करें।इसकी जटिल ऑपरेटिंग प्रक्रिया के कारण, एसआईसी अर्धचालक को सिलिकॉन सेमीकंडक्टर्स की तुलना में कम उपज की समस्या है।

इस बार, सुमितोमो हैवी इंडस्ट्रीज आयन टेक्नोलॉजी ने अपने लॉन्च किए गए उत्पादों के आयन आरोपण विधि को बेहतर बनाने की योजना बनाई है, जबकि एसआईसी की गुणवत्ता और बढ़ती उत्पादन को बनाए रखा है।

उच्च तकनीकी कठिनाई और कठिन प्रक्रिया सत्यापन जैसे कारकों के कारण, आयन आरोपण मशीन उद्योग में उच्च प्रतिस्पर्धी बाधाएं और उच्च उद्योग एकाग्रता हैं।कुल मिलाकर, पूरे बाजार को मुख्य रूप से अमेरिकन एप्लाइड मैटेरियल्स कंपनी और अमेरिकन एक्ससेलिस कंपनी द्वारा एकाधिकार दिया जाता है, वैश्विक बाजार के 70% से अधिक के लिए लेखांकन।

ट्रेंडफोर्स परामर्श के नवीनतम डेटा से पता चलता है कि एसआईसी अभी भी ऑटोमोबाइल और नवीकरणीय ऊर्जा जैसे अनुप्रयोग बाजारों में अपने प्रवेश को तेज कर रहा है जहां बिजली घनत्व और दक्षता बेहद महत्वपूर्ण हैं।समग्र बाजार की मांग आने वाले वर्षों में विकास की प्रवृत्ति को बनाए रखेगी, और यह अनुमान है कि वैश्विक SIC पावर डिवाइस बाजार का आकार 2028 में 9.17 बिलियन अमेरिकी डॉलर तक पहुंचने की उम्मीद है।